Photo 공정) 정렬 노광(Photo 공정)이 제대로 진행되지 않으면 어떻게 될

안녕하세요

 

 

 

이번 포스팅은 정렬 노광이 제대로 진행되지 않았을 때 일어나는 현상에 대해서 포스팅하도록 하겠습니다.

 

정렬 노광이 제대로 진행되지 않았다는 의미는 정말 많습니다.

 

1. PR에 우리가 원하는 Pattern을 형성하지 못했다.

2. 하부 Layer와 Overlay가 틀어졌다.

 

등등 많은 Issue들이 있지만 이번 포스팅에서는

1번 경우만 다뤄보도록 하겠습니다.

(지금까지 PR을 다루었기 때문!)

 

 

 

첫번째로, 우리가 원하는 만큼 정렬 노광이 진행되지 못한 경우입니다.

아래와 같이 빛의 세기가 다른 만큼 PR에 반응하는 정도가 다르고

Develope 되는 정도도 다르게 됩니다.

 

 

 

 

 

이렇게 불균형한 상태로 Etch가 진행되게 되면

빛의 세기가 약하게 노광된 부분은 Etch Stop Layer전까지 Etch하지 못하게 되어

Pattern형성에 실패하게 됩니다.

 

 

제일 좌측 경우처럼 Etch Stop Layer의 일부분까지 Etch가 되었다 하더라도

Etch 선택비에 의해 하부 Layer에서 우리가 원하는 만큼 Etch가 되지 않을 수 있습니다.

 

 

 

 

 

두번째 경우에 대해서 알아보도록 하겠습니다.

두번째 경우는, 우리가 노광을 하지 않았는데 노광이 되는 경우나, 

주위 Pattern들이 Develope 될 때 예기치 못하게 같이 Develope 되는 경우입니다.

 

 

위와 같이 주위 Pattern에 의해 같이 Develope 되거나, PR이 노광이 되는 경우가 있습니다.

 

 

 

 

위와 같이 의도치 않은 패턴의 형성이나 패턴이 형성되어야 하는 곳에 패턴이 형성 되지 않기 때문에

포토 공정시에 여러가지를 고려하여야 합니다.

 

어떤 Pattern이 취약한지, Pattern끼리는 어느정도까지 붙을수 있는지,

우리의 설비는 어디까지 Cover가 가능한지, 빛의 세기는 어느정도가 적당한지

등등 수많은 변수들 중에서 최적의 공정 조건을 잡는게 중요합니다.